芬蘭BENEQ與台灣真空鍍膜設備大廠-龍翩真空科技於4月20日聯手 舉辦「ALD光學鍍膜研討會」，會中邀集台灣各大光學廠商齊聚一堂 分享國際間前瞻性產品應用與高端製程技術的開發進展，期藉此業界 交流拓展ALD技術與量產設備在台灣光學市場，開拓更多的合作發展 機會。　　BENEQ自1984年起開始使用原子層沉積ALD進行世界上首次工業生產 。今日BENEQ已經成為全球領先的ALD設備生產商，提供種類廣泛的技 術產品和研發服務，並致力於將原子層沉積技術投入到各項研究中， 亦通過工業ALD解決方案推動技術發展的大趨勢。　　原子層沉積（Atomic Layer Deposition，ALD）係藉由前驅物氣體 與基板表面形成自我侷限反應，進行單層及多層原子薄膜沉積，並具 備大面積、高階梯覆蓋率、高厚度均勻性、低溫製程及原子級膜厚控 制等優點。　　BENEQ ADL半導體業務處長謝祖德表示，原子層沉積（ALD）技術如 今備受重視，主要受惠於積體電路工業的奈米製程發展對ALD的需求 增加，其中已有多項關鍵薄膜製程從傳統CVD或PVD方式改由ALD取代 ，而目前除了半導體以外，許多產業及領域皆有元件微型化的趨勢， 近年看到原子層沉積開發更接近產業需求等級的12吋量產型ALD設備 外，在光電領域和生醫材料等領域，例如：照相機模組、車載、自駕 、激光雷達、VR及醫材等，從發展趨勢來看未來幾年將有極佳的應用 機會。　　龍翩真空科技董事長楊吉祥表示，龍翩自1991年成立以來即積極於 真空鍍膜機之開發與製造，致力為客戶建構完整的「Turn-key」服務 ，從產品設計、開發、設備製造、生產規劃、操作人員訓練及製程設 計諮詢等完整Total-Solution服務，於光學產業界深耕多年：每每因 應產業發展趨勢之需，與業界共同先衝鋒陷陣並建立濃厚革命情感， 提供該產業更新的技術與相關製程供業界使用，充分發揮產業鏈重要 的環節。　　目前龍翩真空營運主軸：真空蒸鍍／濺鍍設備製造、薄膜製程技術 服務、藍芽溫度監控裝置、真空配件、成膜輔耗材銷售、Olympus光 學檢測儀器等總代理；就在西洋情人節2月14日，龍翩與芬蘭BENEQ結 為關係伙伴，從今往後，龍翩將在耕耘多年平台上提供ALD設備服務 及銷售。　　BENEQ和龍翩真空今後將合作開發和積極推廣ALD原子層沉積鍍膜技 術，應用於台灣光學市場的高端曲率鏡片；ALD技術為最具挑戰性的 結構提供均勻的批覆薄形鍍膜層，極適合高端光學應用，龍翩真空身 為業界先驅應為產業未來發展及應用全力以赴。